十日谈 | 存志中国芯片制造业

1978年，从中国科大毕业十年，又在石油化工和科学院研究所工作了十年的我，作为“文革”后第一届研究生来到了北京大学化学系就读。两年后，在我的第3个本命年里，作为北大第二个自费出国的留学生，我远赴美国加州大学（UCLA）攻读物理化学博士。毕业后，我误打误撞进入英特尔中心研究开发部工作，当时，还对芯片制造技术一无所知。谁又能想到，我在这个领域工作了34年，有幸走到行业的前沿，参与和领导了几代等离子体刻蚀设备的开发和市场引入，拥有了包括中国地区在内的各国专利共300多项，见证了半导体行业光速发展的巅峰岁月。

英特尔创始人之一戈登·摩尔有一条著名的“摩尔定律”：集成电路芯片上可容纳的元器件数目，每隔18-24个月便会增加1倍，运算速度也会提升1倍。尽管在2010年后，国际半导体技术发展已经放缓至每3年翻一番，但这一定律预计仍将持续相当长一段时间。我在英特尔工作时，有幸和摩尔先生及其夫人共进晚餐，交谈了近两个小时。他的低调谦逊、和蔼可亲给我留下了非常深刻的印象。我认识到，做一个伟大的产业推动者，并不一定是非常凶悍、刚愎自用、严厉苛刻的人。

上世纪70年代，我在北大读书时，学校有一台128K存储能量的电子管计算机，是当时国内最先进的电子计算机。到了80年代中期，我在英特尔中心研究开发部工作时，英特尔已经把128K EPROM存储器做到了一个指甲盖大的芯片上。30年后的2015年，东芝率先开发出128G的存储器。在短短的几十年内，人类把能加工的微观结构的面积缩小到1万亿分之一。这个加工能力的缩小，要靠十多种集成电路设备上千次的工艺集成，其中最关键的精雕细刻微观结构的设备就是我为之努力奋斗的光刻机和等离子体刻蚀机。

但凡来到我的公司中微半导体设备参观的人，可能会有点“失望”，因为我们的生产线与汽车制造等众多制造行业相比，显得“静悄悄的”，既没有机器人手臂上下翻飞，也没有人员如织的热火朝天。但我们造出的等离子刻蚀设备可加工几百种不同的工艺过程。比如打出直径只有头发丝的几千分之一的孔，加工精度、均匀性、重复性要达到上万分之一。一台刻蚀机每年要刻出100万万亿个孔，还要达到99.99%的合格率，其挑战极限的难度之大可想而知。所以说，研发制作芯片的高端设备可谓高端制造业的最高端。要摘取高端制造业王冠上的这颗明珠，对每一位科学家和企业家都是考验智慧与心力的巨大挑战，同时也蕴含着巨大的机遇。

早在新世纪之交，我们就清楚地看到了亚洲和中国市场将会飞速崛起，这也正是我在上海市领导的动员下，决定归国创业的一个重要原因。我的家族前三代都是海归，有归国报效的传统。继承家风，是推动我回来的另一个动力。时任上海市经委副主任的江上舟曾与我长谈几次，力邀我归国创业，几次晤谈，让我真正下了归国的决心，并且将上海定为首选目标。很高兴的是，国内半导体行业的市场发展印证了我们的预期，政府和业界改革开放的决心和不断进取的动力不断激励着我们。

我很幸运，生长在一个开放包容、鼓励创新的时代，生长在一个国际化、多元化的时代。生而逢时，方能志存高远。(尹志尧)